Le 24 octobre prochain aura lieu au C2N un Workshop ZEISS sur le thème de : "La microscopie Electronique, ionique, rayon X au service de la caractérisation des nanotechnologies". La microscopie évolue : l'imagerie est un élément incontournable dans de nombreux domaines d'application en recherche, impliquant une automatisation et des performances toujours plus avancées.

Des membres du C2N, ingénieurs responsables de plateformes et chercheurs, interviendront pour présenter les plateformes de microscopies utilisées au laboratoire et leurs diverses applications en nanosciences, nanotechnologies et en métrologie :

• Plateforme d’Innovation en Micro-Nanotechnologies (PIMENT) // Dépôts, Lithographie, Gravure, Caractérisation ;

• Plate-forme d’analyse Avancée des Matériaux (PANAM) // DRX appliquée aux nanostructures, MET, AFM ;

• Quelques exemples d’applications avec le système Orion Nanofab ;

• Mise en oeuvre d’une chaîne de traçabilité pour les mesures dimensionnelles à l’échelle nanométrique conduites par AFM et MEB, en collaboration C2N/LNE ;

• Exemples d’utilisation du MEB en nanotechnologies ;

• Caractérisation de films Getters pour le vide ;

• Equipement d'excellence (EquipEx) TEMPOS // Plateforme unique de microscopie électronique accessible à tous les chercheurs du territoire Paris-Saclay.

Des représentants de ZEISS, acteur moteur de nouvelles technologies, viendront présenter les dernières avancées de microscopie appliquées aux sciences des matériaux ainsi que certains équipements de leur gamme de microscopes automatisés.

• Programme complet et inscription sur le site web de ZEISS